博易网,更全更新的互联网资讯分享!

全国首个MOR核心技术 国产EUV光刻胶启动

时间:2025-09-08 21:43人气:编辑:思思来源:

9月8日消息,EUV光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备,同样重要的还有EUV光刻胶,现在无锡宣布国内首个掌握EUV光刻胶核心技术的平台启动了。

来自无锡政府网站的消息,9月4日2025集成电路(无锡)创新发展大会开幕。

本次大会上宣布了多个重磅项目,除了算力平台外,还有2个值得关注的——无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线作为全国首个掌握MOR型光刻胶核心原材料、配方及应用技术的创新平台,其研发生产的光刻胶将对标世界一流水准。

另一个则是江苏(集萃)光刻胶树脂合成中试线是全国唯一采用连续流技术制备光刻胶树脂的研发平台,首创高分子稳定合成的聚合装备与工艺。

其中MOR型光刻胶就是针对EUV时代光刻胶的新技术,它指的是金属氧化物光阻剂,取代了目前DUV光刻胶所用的CAR化学增幅型光阻剂,是提高光刻分辨率、缩小栅极距、降低缺陷率的关键材料之一。

不仅5nm以下的工艺需要先进EUV光刻胶,DRAM内存工艺也会逐渐导入到EUV时代,同样需要EUV光刻胶,NAND闪存暂时还没有需要EUV工艺,但未来一样需要EUV工艺才能进一步提升密度。

全国首个MOR核心技术 国产EUV光刻胶启动(图1)

本文转载于快科技,文中观点仅代表作者个人看法,本站只做信息存储

本文来自于网络或用户投稿,本站仅供信息存储,阅读前请先查看【免责声明】,若本文侵犯了原著者的合法权益,可联系我们进行处理。本文链接:https://www.trustany.com/intel/9704.html

标签:
相关资讯
热门频道

热门标签

官方微信官方微博百家号

博易网网站简介 | 意见反馈 | 联系我们 | 博易网免责声明 | 广告服务

Copyright © 2002-2024 博易网 版权所有 声明:本站文章和数据均来自互联网,本站为免费公益性网站,如侵犯了您的权益,请联系我们妥善处理。 备案号:沪ICP备2022023686号-12